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L’écriture laser 3D dans le silicium devient enfin possible



Modifier localement la structure d’un matériau massif à l’aide d’un laser femtoseconde, comme on sait le faire dans le verre ou dans des polymères, est désormais possible dans le silicium. C’est ce qu’ont démontré des chercheurs du laboratoire Lasers, plasmas et procédés photoniques (LP3), ouvrant ainsi la voie à la réalisation de dispositifs 3D pour la photonique sur silicium. Ces résultats sont publiés dans la revue Nature Communications.

 

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